长江存储申请制作三维半导体装置中阶梯结构的系统装置和方法专利，提供用于制作三维(3D)半导体装置中的阶梯结构的系统、装置和方法_行业新闻

长江存储申请制作三维半导体装置中阶梯结构的系统装置和方法专利，提供用于制作三维(3D)半导体装置中的阶梯结构的系统、装置和方法

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2025-08-06 19:16:11

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金融界2025年8月6日消息，国家知识产权局信息显示，长江存储科技有限责任公司申请一项名为“阶梯结构以及用于形成阶梯结构的方法”的专利，公开号CN120434997A，申请日期为2024年02月。

专利摘要显示，本文公开了阶梯结构以及用于形成阶梯结构的方法。提供了用于制作三维(3D)半导体装置中的阶梯结构的系统、装置和方法。在一个方面中，方法包括：提供包括沿第一方向延伸的第一牺牲层和第一隔离层的第一堆叠体的第一层叠。对第一层叠的至少一部分进行蚀刻以形成第一阶梯结构。提供沿第二方向与第一层叠相邻的第二层叠，第二层叠包括沿第一方向延伸的第二牺牲层和第二隔离层的第二堆叠体，第二牺牲层和第二隔离层沿第二方向彼此交替。对第二层叠的至少一部分进行蚀刻以形成第二阶梯结构。形成沿第二方向延伸穿过第一阶梯结构或第二阶梯结构中的至少一者的接触结构。

天眼查资料显示，长江存储科技有限责任公司，成立于2016年，位于武汉市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本12469608.0404万人民币。通过天眼查大数据分析，长江存储科技有限责任公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目1396次，财产线索方面有商标信息978条，专利信息5000条，此外企业还拥有行政许可1005个。

来源：金融界

企业方法显示三维半导体装置系统阶梯结构专利叠体牲层隔离层

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