上海积塔半导体取得能降低绿色激光光刻对准时对光刻胶损害的半导体工艺机台专利，降低绿色激光在光刻对准时对光刻胶的损害_资源案例

上海积塔半导体取得能降低绿色激光光刻对准时对光刻胶损害的半导体工艺机台专利，降低绿色激光在光刻对准时对光刻胶的损害

创始人

2025-07-11 09:39:01

0次

金融界2025年7月11日消息，国家知识产权局信息显示，上海积塔半导体有限公司取得一项名为“半导体工艺机台”的专利，授权公告号CN223092848U，申请日期为2024年08月。

专利摘要显示，本实用新型提供一种半导体工艺机台。所述半导体工艺机台包括：至少一激光光源，所述激光光源包括绿光光源，所述绿色光源用于发出绿色激光；至少一光纤，所述光纤的一端连接至所述激光光源；绿光调节器，设置于所述绿光光源连接的光纤上，所述绿光调节器进一步包括外壳和多个不同尺寸的透光片，所述绿光调节器能够衰减经过所述透光片的所述绿色激光，且所述透光片的光强衰减比例随所述透光片尺寸的增大而减小。

天眼查资料显示，上海积塔半导体有限公司，成立于2017年，位于上海市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本1690740.3918万人民币。通过天眼查大数据分析，上海积塔半导体有限公司参与招投标项目1838次，财产线索方面有商标信息7条，专利信息1189条，此外企业还拥有行政许可192个。

来源：金融界

企业显示降低信息激光机台导体绿色工艺专利半导体绿光透光片

上一篇：浙江里阳半导体取得一种过压保护器件专利，提高了组装效率

下一篇：博纯（泉州）半导体取得缓冲式含氟废气处理组件专利限制含氟废气进入处理桶内部最大流量

上海积塔半导体取得能降低绿色激光光刻对准时对光刻胶损害的半导体工艺机台专利，降低绿色激光在光刻对准时对光刻胶的损害

相关内容

热门资讯