浙江创芯取得离子注入机及半导体制造设备专利，提高产品良率
创始人
2026-01-13 21:14:18
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国家知识产权局信息显示，浙江创芯集成电路有限公司取得一项名为“一种离子注入机及半导体制造设备”的专利，授权公告号CN223797333U，申请日期为2024年12月。
专利摘要显示，本申请实施例提供了一种离子注入机及半导体制造设备，所述离子注入机的机台划分为第一功能区域和第二功能区域，第一功能区域和第二功能区域竖直分层布局，并且第一功能区域位于下层，第二功能区域位于上层；第二功能区域的洁净度高于第一功能区域；所述第一功能区域设置有：产生离子的离子源；对离子源产生的离子进行筛选形成离子束，并将离子束向上传输至第二功能区域的束流筛选区；所述第二功能区域设置有：接收所述束流筛选区传输的离子束，对待注入材料进行离子注入的工艺腔。本申请实施例提供的离子注入机可以降低颗粒污染风险，提高产品的良率。
天眼查资料显示，浙江创芯集成电路有限公司，成立于2020年，位于杭州市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本182000万人民币。通过天眼查大数据分析，浙江创芯集成电路有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目273次，财产线索方面有商标信息14条，专利信息529条，此外企业还拥有行政许可7个。
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来源：市场资讯
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