精电光科申请电子束曝光方法及系统专利，可精准控制曝光剂量
创始人
2026-06-20 12:47:16
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国家知识产权局信息显示，精电光科（北京）科技有限公司申请一项名为“电子束曝光方法及系统”的专利，公开号CN122239380A，申请日期为2026年4月。
专利摘要显示，本发明提供一种电子束曝光方法及系统，涉及电子束曝光技术领域，所述方法包括：通过电子束曝光设备对工件进行曝光，获得一次曝光后的工件表面的图形；通过检测模块，确定一次曝光后的工件表面的图形中的异常区域及其检测参数；根据检测参数，确定补充曝光剂量；通过转移设备将一次曝光后的工件转移至电子束曝光设备处，并根据所述曝光剂量对异常区域进行二次曝光，获得修正后的工件表面的图形。根据本发明，利用异常区域的检测参数直接控制电子束曝光设备进行二次曝光，实现曝光‑检测的闭环控制，对异常区域进行局部精确修复，可精准控制曝光剂量，不易破坏整体的物理化学性能，且提升加工效率和加工精度。
天眼查资料显示，精电光科（北京）科技有限公司，成立于2024年，位于北京市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本100万人民币。通过天眼查大数据分析，精电光科（北京）科技有限公司专利信息3条，此外企业还拥有行政许可1个。
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来源：市场资讯
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