电子应用
天民科技申请一种可延长面板开关专利，便于面板开关的使用
国家知识产权局信息显示，温州天民科技股份有限公司申请一项名为“一种可延长面板开关”的专利，公开号CN121034879A，申请日期为2025年8月。 专利摘要显...
英飞凌取得具有掩埋深沟槽结构的传感器设备制造方法及设备专利
国家知识产权局信息显示，英飞凌科技德累斯顿公司取得一项名为“用于制造具有掩埋深沟槽结构的传感器设备的方法和传感器设备”的专利，授权公告号CN112885854B...
启泰电子申请一种电子元件的塑封方法及电子元件专利，改善制程溢胶问题
国家知识产权局信息显示，杭州启泰电子科技有限公司申请一项名为“一种电子元件的塑封方法及电子元件”的专利，公开号CN121034970A，申请日期为2025年8月...
原创 乌克兰奔袭1千公里！摧毁俄罗斯切博克萨雷的电子工厂
防空系统四个字听起来像是铜墙铁壁一样坚固，可实际上，乌克兰的无人机一口气飞了1000公里，直接炸掉了俄罗斯自家反无人机天线的老巢。11月25日深夜，俄罗斯楚瓦什...
杰理科技取得静电放电(ESD)保护电路及其工作方法专利
国家知识产权局信息显示，珠海市杰理科技股份有限公司取得一项名为“静电放电(ESD)保护电路及其工作方法”的专利，授权公告号CN119730394B，申请日期为2...
武汉华星光电取得显示面板和电子装置专利
国家知识产权局信息显示，武汉华星光电半导体显示技术有限公司取得一项名为“显示面板和电子装置”的专利，授权公告号CN115064559B，申请日期为2022年6月...
中铁十局申请竖井工程用锚杆长度检测设备及方法专利，可检测出锚杆嵌入土层的长度
国家知识产权局信息显示，中铁十局集团青岛工程有限公司、中铁十局集团有限公司申请一项名为“一种竖井工程用锚杆长度检测设备及检测方法”的专利，公开号CN121025...
三相四线大功率稳压器 分相补偿解决三相不平衡问题
在工业生产、商业楼宇等三相用电场景中，三相不平衡是电网运行的高频难题 —— 单相负载集中（如商业空调、照明）、设备启停冲击等因素，都可能导致三相电压失衡。这一问...
（外加电流）阴极保护分段式深井阳极
分段式深井阳极是外加电流阴极保护系统中一种高效、可靠的辅助阳极解决方案，尤其适用于高电阻率土壤、空间受限区域及复杂地质条件下的工程场景。 一、结构组成 1.阳极...
三星显示申请显示装置和电子装置专利，可向像素选择性提供内部电源电压
国家知识产权局信息显示，三星显示有限公司申请一项名为“显示装置和电子装置”的专利，公开号CN121034211A，申请日期为2025年4月。 专利摘要显示，公开...
上海数佑信息科技申请电子标签专利，包含内部天线与外部天线结构
国家知识产权局信息显示，上海数佑信息科技有限公司申请一项名为“电子标签”的专利，公开号CN121031639A，申请日期为2022年5月。专利摘要显示，本发明涉...
贴片电阻的硫化问题与防硫化解决方案
贴片电阻的硫化失效是工业与户外场景的高发故障，根源是电极银与硫化物的化学反应，需通过“材料-封装-工艺”三重方案系统性解决，行业的成熟方案可从根本上规避风险。 ...
利扬芯片（688135）11月28日主力资金净卖出3490.79万元
证券之星消息，截至2025年11月28日收盘，利扬芯片(688135)报收于29.83元，下跌0.77%，换手率3.72%，成交量7.56万手，成交额2.26亿...
盟升电子（688311）11月28日主力资金净买入78.59万元
证券之星消息，截至2025年11月28日收盘，盟升电子(688311)报收于32.21元，上涨3.74%，换手率1.6%，成交量2.69万手，成交额8569.2...
吉安谦永电子科技有限公司成立 注册资本50万人民币
天眼查App显示，近日，吉安谦永电子科技有限公司成立，法定代表人为刘泽华，注册资本50万人民币，经营范围为一般项目：技术服务、技术开发、技术咨询、技术交流、技术...
股票行情快报：强达电路（301628）11月28日主力资金净卖出300.56万元
证券之星消息，截至2025年11月28日收盘，强达电路(301628)报收于84.1元，上涨0.32%，换手率2.21%，成交量7225.0手，成交额6048....
百度取得感知模型训练方法、装置、电子设备及存储介质专利
国家知识产权局信息显示，北京百度网讯科技有限公司取得一项名为“感知模型训练方法、装置、电子设备及存储介质”的专利，授权公告号CN116188899B，申请日期为...
格力申请供电电源的控制方法及相关装置、系统等专利，提高供电电源的安全性
国家知识产权局信息显示，珠海格力电器股份有限公司申请一项名为“供电电源的控制方法、装置、系统、空调、介质和产品”的专利，公开号CN121035926A，申请日期...
上海积塔半导体取得改善光刻胶层形貌及半导体器件制备方法专利
国家知识产权局信息显示，上海积塔半导体有限公司取得一项名为“改善光刻胶层形貌的方法以及半导体器件的制备方法”的专利，授权公告号CN119916646B，申请日期...